研究团队开发硒化锡基材料新薄膜沉积工艺_跳动锐财网

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研究团队开发硒化锡基材料新薄膜沉积工艺

研究小组开发了一种用于硒化锡基材料的新薄膜沉积工艺。该工艺采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法，能够在200°C的低温下在大晶圆表面
2024年05月10日 15:44:24

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